金属热蒸镀设备 metal Thermal Evaporation System
热蒸发制程是用于沉积材料中-简单的物理气相沉积 PVD . 将材料 (金属或者有机材料等) 置于真空环境中的电阻热源中, 使其加热并蒸发, 以-直接的方式蒸发到基板上, 然后在基板上凝结成固态形成薄膜. 热蒸发比溅镀可以提供更快的蒸发速率. 上海伯东代理的金属热蒸镀设备加装美国 KRI 离子源, 可以精准的控制蒸发速度, 为客户提供品质保证的复合式薄膜, 且薄膜的厚度和均匀度小于+/- 3％, 广泛应用于纳米薄膜, 太阳能电池等行业以及金属材料的研究等.
上海伯东金属热蒸镀设备配置和优点
客制化的基板尺寸, -大直径为 12寸晶圆或 470 x 370 mm
宽大的前开式门, 并有两个视窗和视窗遮版用于观察基材和蒸发源
优异的薄膜均匀度小于±3％
具有顺序操作或共沉积的多个蒸发源
基板可加热到 800°C
利用载台旋转来改善薄膜沉积品质
基板至蒸发源的间距可调式
每个蒸发源和基材均有安装遮板
上海伯东美国 KRI 离子源可用于基板清洁和加速材料的蒸发速度, 并且离子源在材料沉积过程中可帮助沉积并使沉积后的薄膜更为致密.
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